Aktualności

– Bardzo się cieszę, że możemy spotkać się na seminarium poświęconym metrologii i jej roli w rozwoju technologicznym wspomaganym sztuczną inteligencją. To dziś niezwykle aktualny i dynamicznie rozwijający się temat, obecny w wielu obszarach gospodarki i zastosowań przemysłowych - mówił witając zebranych Jerzy Jóźwik, Dyrektor Polskiej Unii Metrologicznej. - Dzisiejsze seminarium to przestrzeń wymiany wiedzy i doświadczeń – spotykają się tu eksperci z różnych ośrodków w całej Polsce. To pokazuje, jak szerokie i ważne jest dziś środowisko metrologiczne oraz jak istotną rolę odgrywa ono w rozwoju nowoczesnych technologii.

Dyrektor Generalny Głównego Urzędu Miar Piotr Ziółkowski podkreślił rolę metrologii jako kluczowego elementu rozwoju nowoczesnych technologii. - Bardzo się cieszę z kolejnego spotkania w Targach Kielce. Nasza obecność tutaj i wspólne seminaria stały się już pewną dobrą tradycją wymiany myśli między nauką a przemysłem. Temat tegorocznego spotkania jest szczególnie istotny, ponieważ sztuczna inteligencja to obszar, w którym Główny Urząd Miar intensywnie rozwija swoje kompetencje. Nie chodzi tylko o możliwości obliczeniowe, ale także o tworzenie nowych systemów, również w kontekście bezpieczeństwa państwa. Jesteśmy już po pierwszych badaniach, które przyniosły bardzo obiecujące rezultaty. Mam nadzieję, że w niedalekiej przyszłości będziemy mogli zaprezentować konkretne projekty realizowane w konsorcjach z innymi podmiotami - podkreślił Dyrektor Generalny GUM.  

Pierwsza sesja tematyczna poświęcona była fundamentalnym zagadnieniom związanym z wykorzystaniem metrologii w innowacjach technologicznych. – Metrologia jest fundamentem wielu obszarów naszego życia, choć często pozostaje niewidoczna. Dla mnie, jako chemika, jej znaczenie wiąże się przede wszystkim z bezpieczeństwem – środowiska, zdrowia, żywności czy terapii medycznych. Kluczowe jest poczucie odpowiedzialności za wynik pomiaru. To właśnie na jego podstawie podejmowane są decyzje – często o bardzo dużym znaczeniu społecznym, prawnym czy gospodarczym. Dlatego tak ważna jest spójność pomiarowa. Oznacza ona, że możemy podpisać się pod wynikiem własnym nazwiskiem – że jest on rzetelny, wiarygodny i zgodny z wymaganiami norm - mówiła prof. Ewa Bulska z Uniwersytetu Warszawskiego. W kontekście sztucznej inteligencji pojawia się pytanie: czy AI wspiera zachowanie tej spójności, czy może ją zaburza? To jedno z kluczowych zagadnień, nad którymi dziś się zastanawiamy. Metrologia – jako fundament zaufania do danych – będzie odgrywać coraz większą rolę w rozwoju nowoczesnych technologii, w tym rozwiązań opartych na sztucznej inteligencji.

AI w nowoczesnej metrologii

W kolejnej prelekcji Mirosław Pajor zaprezentował koncepcję cyfrowego bliźniaka obrabiarki CNC wspomaganego sztuczną inteligencją, natomiast Kamil Jonak przybliżył rolę AI w nowoczesnej metrologii. Uwagę uczestników zwróciło także wystąpienie Rafała Jóźwiaka dotyczące zastosowania metrologii w obrazowaniu medycznym i budowania zaufania do rozwiązań opartych na sztucznej inteligencji.

Druga sesja skupiła się na praktycznych aspektach wykorzystania metrologii w przemyśle przyszłości. Anna Timofiejczuk mówiła o przejściu „od pomiaru do innowacji”, podkreślając znaczenie wiarygodnych danych dla rozwoju technologii. Marcin Kwiatkowski poruszył problem tzw. „metrohalucynacji”, czyli wpływu szumu pomiarowego na błędne wnioski generowane przez systemy AI. Z kolei Dariusz Brzozowski zaprezentował możliwości nowoczesnej metrologii w przemyśle wspieranym sztuczną inteligencją, a Dariusz Knapek omówił zastosowanie inteligentnych sensorów drgań w diagnostyce i monitoringu obiektów inżynierskich.

W trzeciej sesji eksperci skoncentrowali się na przyszłości metrologii i jej roli w rozwoju zaawansowanych technologii. Tomasz Kozior przedstawił zagadnienia standaryzacji w druku 3D, natomiast Marcin Krawczyk zaprezentował nowoczesne metody oceny niepewności pomiarów wspomaganych AI. Konrad Kobiela omówił perspektywy rozwoju Narodowej Sieci Metrologii Współrzędnościowej, a Jakub Karasiński przybliżył projekty realizowane na Uniwersytecie Warszawskim w ramach programu Polska Metrologia II.

Seminarium zakończyło się podsumowaniem Jerzego Jóźwika, który podkreślił, że metrologia – choć często niewidoczna – stanowi fundament rozwoju nowoczesnych technologii, szczególnie w kontekście dynamicznego rozwoju sztucznej inteligencji.

Spotkanie potwierdziło, że Przemysłowa Wiosna w Targach Kielce to nie tylko przestrzeń prezentacji technologii, ale także ważne forum wymiany wiedzy i doświadczeń między nauką a przemysłem.

/MŚ/